HI (High Intensity Reflector) – высокоинтенсивный рефлектор.

Данная технология предназначена для экспонирования жидкого резиста на внутренних слоях МПП. В зависимости от используемого фоторезиста может быть достигнуто высокое разрешение рисунка (50 мкм в зависимости от материала).