>
 

ПОЛУАВТОМАТИЧЕСКАЯ УСТАНОВКА ЭКСПОНИРОВАНИЯ BACHER EXOS EXPOSURE SYSTEM (ГЕРМАНИЯ)

 

Характеристики BACHER EXOS EXPOSURE SYSTEM:

  •  - Полуавтоматическая установка экспонирования печатных плат.

  • 2 рамы экспонирования, возможность выполнения различной работы на раме А и на раме В.

  •  - Автоматическое совмещение фотошаблон/фотошаблон.

  •  - Автоматическое совмещение плата/фотошаблон.

 

 

Варианты исполнения с использованием двух технологий света:

 

POK (praxis oriented collimation) – Направленное коллимирование

 

Данная технология предназначена для экспонирования сухого пленочного резиста на внутренних слоях МПП. В зависимости от используемого фоторезиста может быть достигнуто высокое разрешение рисунка (75 мкм в зависимости от материала).

 

HI (High Intensity Reflector) – высокоинтенсивный рефлектор. Данная технология предназначена для экспонирования жидкого резиста на внутренних слоях МПП. В зависимости от используемого фоторезиста может быть достигнуто высокое разрешение рисунка.(50 мкм в зависимости от материала).

 

Минимальная толщина заготовок, мкм

(50) 100 базовый материал

Максимальная толщина материалов, мм

0 – 4

Минимальный размер заготовок, мм

250 x 250

Максимальный размер заготовок, мм

610 x 710

Точность совмещения рамы, мкм

± 15

Мощность

14/20 кВт

Охлаждающая вода:

3,5/6 м3

Сжатый воздух:

6 бар, 6 м3

Габаритные размеры, ДхШхВ, мм

1250х3300х2100

Масса, кг

2300

 

 

 

Чтобы получить более подробную информацию,узнать цену и сделать заказ Вы можете обратиться к нашим специалистам, которые Вам всегда с удовольствием ответят.

ГЛАВНАЯ   НОВОСТИ   КОНТАКТЫ   ВАКАНСИИ   АКЦИИ  СТАРТ  

 

(812) 380-95-97

zapros@absolutelectronics.ru

Skype: info.absolutelectronics 

Яндекс.Метрика